湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），专业制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
溅射靶起辉放电后，高频离子渗氮炉，当电源的输出脉冲的重复频率足够高时，真空离子渗氮炉，由于真空腔体内的导电离子还没有完全被中和完毕，第二个(以后)重复脉冲的复辉电压与溅射靶的工作电压接近或相同。当电源输出脉冲的重复频率很低(例如几百HZ以下)或灭弧时间过长(大于100ms以上)，溅射靶起辉放电后，由于真空腔体内的导电离子已基本被中和掉，第二个(以后)重复脉冲的复辉电压恢复至较高数值，与点火起辉时的高电压接近或相同。??
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磁控靶射频放电的阴极是电容耦合电极，阳极接地;射频电压可以穿过任何种类的阻抗，所以电极就不再要求是导体；电容耦合穿过绝缘材料或空间，电极就不再限于导电材料，离子渗氮炉，可以溅射任何材料，真空辉光离子渗氮炉，因此射频辉光放电广泛用于绝缘或介质材料的溅射沉积镀膜。
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辉光放电有亚正常辉光和反常辉光两个过渡阶段，放电的整个通道由不同亮度的区间组成，即由阴极表面开始，依次为：阿斯通暗区；阴极光层；阴极暗区(克鲁克斯暗区)；负辉光区；法拉第暗区；正柱区;阳极暗区;阳极光层。其中以负辉光区、法拉第暗区和正柱区为主体。这些光区是空间电离过程及电荷分布所造成的结果，与气体类别、气体压力、电极材料等因素有关，这些都可以从放电理论上作出解释。
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